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名称：锗（Ge)稀有金属，无毒，主要用于半导体工业，塑料工业，红外光学器件，航天工业，光纤通讯等.透光范围2000NM---14000NM，n=4甚至更大，937（℃）时熔化并且在电子枪中形成一种液体，透明塑料薄膜供应，然后在1400（℃）轻易蒸发.用电子枪蒸发时它的密度比整体堆积密度低，而用离子助镀或者镭射蒸镀可以得到接近于松散密度.在锗基板上与THF4制备几十层的8000---12000NM带通滤光片，如果容室温度太高吸收将有重大变化，透明塑料薄膜哪家好，在240--280（℃）范围内，在从非晶体到晶体转变的过程中GE有一个临界点.
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塑料薄膜表面处理的方法
塑料薄膜表面处理的方法有：电晕处理法、化学处理法、机械打毛法、涂层法等，透明塑料薄膜，其中常采用的是电晕处理法。
电晕处理法的基本原理是：通过在金属电极与电晕处理辊（一般为耐高温、耐臭氧、高绝缘的硅橡胶辊）之间施加高频、高压电源，使之产生放电，於是使空气电离并形成大量臭氧。同时，高能量电火花冲击薄膜表面。在它们的共同作用下，使塑料薄膜表面产生活化、表面能增加。通过电晕处理可使聚烯烃薄膜的湿张力提高到38达因/厘米；可使聚酯薄膜的表面湿张力达到52-56达因/厘米以上。
不应用IAD助镀，其膜的硬度，耐久性及密度随基板的温度的改变而改变的.在室温中蒸镀，透明塑料薄膜直销，MGF2膜层平时被手指擦伤，具有比较高的湿度变化.在真空中大概N=1.32，堆积密度82%，应用300（℃）蒸镀，其堆积密度将达到98%，N=1.39它的膜层能通过消弭装置的擦伤测试而且温度变化低，在室温与300（℃）之间，折射率与密度的变化几乎成正比例的. 在玻璃上冷镀MGF2加以IAD助镀可以得到300（℃）同等的薄膜，但是125-150EV能量蒸镀可是非常适用的.在塑料上应用IAD蒸镀几乎强制获取合理的附出力与硬度.履历是MGF2不能与离子碰撞过于猛烈.
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